产品系列

Product Series

钨溅射靶材

产品介绍


钨溅射靶材可通过磁控溅射工艺在各类基材上形成钨涂层,这种涂层是TFT-LCD屏幕中使用的薄膜晶体管构件。由于钨的熔点比钼更高,因此更加稳定,适用于大屏幕,满足更高图像清晰度和对比度的需求。我们装备有难熔金属领域的先进超大型轧机- 2100mm单机架四辊可逆热轧机,能够生产出宽幅钨溅射靶,其涂层工艺更稳定,沉积层质量更高。我们生产的钨溅射靶材具有以下特点:

超高纯度

靶材的纯度越高,PVD过程中出现异常颗粒的几率越小,溅射薄膜的性能越好。材料中的杂质是沉积薄膜的主要污染源,必须严格控制。我们生产的纯钨靶钨含量不低于99.97%,可充分保证溅射薄膜的品质,从而确保每个像素点均能发挥完美功能。

超高密度

高密度的靶材溅射效率高,可提高单位时间内的溅射面积。我们通过大的轧制变形量,实现钨靶材几乎100%的致密度,密度可达到19.3g/cm3,可极大地避免固体中的气孔突然释放造成的微粒飞溅,从而提高薄膜品质。

细小且均匀的晶粒度

对于同一种靶材,晶粒细小的溅射速率更快;晶粒分布均匀的溅射沉积的薄膜厚度分布均匀。我们通过特殊工艺生产的靶材晶粒度细小且均匀,垂直轧制方向晶粒尺寸约为50 um,沿轧制方向晶粒尺寸小于100 um。

广泛的靶材种类选择

我们可为您提供的钨溅射靶材有很多种类,按形状可分为钨方靶,钨条靶和钨管靶。按材质分类可分为纯钨靶和钨合金靶。

钨钛(WTi)靶

钨钛靶主要应用于CIGS薄膜太阳能电池领域,利用钨的高密度和钛优异的耐腐蚀性和附着性,钨钛可作为理想的涂层,防止其他原子扩散到CIGS半导体中,从而提高CIGS太阳能电池的效率。我们生产的钨钛靶具有高纯度(>99.95%),高密度,和细小均匀的晶粒度(<100μm),钛含量通常为10%或20%。

钨镍(WNi)靶

钨镍靶主要应用于电致变色玻璃领域,我们生产的钨镍靶具有高纯度(>99.95%),高密度,和细小均匀的晶粒度(<100μm),而且成分可根据您的需求调制,镍含量从25%~55%不等。

 

产品应用


钨溅射靶可用于制造TFT-LCD 屏幕的薄膜晶体管,也可用于微电子部件,例如频率滤波器。钨合金靶可用于CIGS薄膜太阳能电池以及电致变色玻璃等应用领域。

 

产品规格


安泰天龙可提供全世代线的靶材,装备有难熔金属领域的先进超大型轧机- 2100mm单机架四辊可逆热轧机,可以生产目前市场需要的尺寸最大的平面靶和旋转靶。

 

 

厚度(mm)

宽度(mm)

长度(mm)

平面靶

10~18

200~300

≤4000

≤2100

≤3000

旋转靶

>φ100

≤2900

制作工艺


公司优势


具备全世代线规格靶材的研发生产能力。

充足的产能和备货为您的生产需求保驾护航。

有效行程4000mm*2000mm的大尺寸无损探伤设备,确保产品无缺陷出厂,达到您期望的完美镀膜效果。

严格稳定的质量控制,确保出厂产品具备99.97%以上极高纯度、细小均匀的晶粒度、99%以上的高致密度。

联系方式

季鹏飞


+86-10-58717301


jipengfei@atmcn.com


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