产品系列

Product Series

钽靶材

产品介绍


钽的熔点2996℃,密度16.68g/cm,导热系数(25℃):54(W M K),钽具有高导电性、高热稳定性和对外来原子的阻挡作用,故用溅射镀膜法在集成电路上镀上钽膜,可防止铜向基体硅中扩散。钽靶材主要用于半导体及光学领域。 我公司的钽靶材采用EB电子轰击制备的钽锭,通过轧制和退火工艺结合的方法生产而成。该方法生产的靶材具有良好的内部结构、均匀的结晶组织、织构以及能量分布。

 

产品应用


电容器类、半导体类   

产品规格


直径(50-400)mm *厚度(3-28)mm

牌号 :RO5200, RO5400, RO5252(Ta-2.5W), RO5255(Ta-10W)

纯度 :>=99.95%(最大99.99%) 

晶粒度 : 最小40μm

表面粗糙度 : Ra 0.4 最大

平整度 : 0.1mm or 0.10% 最大

公差 : 直径公差+/- 0.254

可根据客户设计制备各种规格、尺寸的产品,全面满足客户需求。

制作工艺


公司优势


质量保障:拥有成熟的生产工艺及检测手段。

供应保障:原料充足、设备产能充足、交付周期短。

提供各种尺寸产品,满足客户定制需求。

联系方式

王群


+86-22-59213388 ext. 673


wangqun@attl.cn


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