产品系列

Product Series

MOCVD加热器

产品介绍


MOCVD是一种利用有机金属分解反应进行气相外延生长薄膜的化学气相沉积技术。为了生长出多组分、大面积、薄层和超薄层化合物半导体材料, MOCVD设备除了要考虑系统密封性、流量、组分变换迅速等,最重要的是反应腔的温度控制。腔体温度控制精度需达到0.2℃或更高,高的温度均匀性也是产品良率的重要保证,MOCVD加热器则是控制腔体热场均匀、稳定、可靠的核心组件。

 

产品应用


MOCVD设备

产品规格


向客户提供配套于主流MOCVD设备的加热器组件和零配件。

制作工艺


公司优势


拥有先进的机加工生产线,可以满足零件和组件的精密加工。

拥有60余年难熔材料研发制备经验,对选材和制备工艺经验丰富。

拥有专业的热场模拟能力和设计团队,可以配合客户系统地设计与优化。

拥有近20年配套于半导体设备领域的装配经验,更好地满足组件式交付需求。

联系方式

季鹏飞


+86-10-58717301


jipengfei@atmcn.com


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