应用领域

Application Field

离子注入机部件

领域介绍


离子注入(扫描加速器式)是一种把高能量的掺杂元素的离子注入半导体晶片中,以得到所需要的掺杂浓度和结深的方法。离子注入由于化学上纯净、工艺上精确可控,因此作为一种独特的研究手段,还被广泛应用于改变光学材料的折射率、提高超导材料的临界温度、表面催化、改变磁性材料的磁化强度、提高磁泡的运动速度和模拟中子辐照损伤等领域。

离子注入机的离子源系统主要由1.6-45mm的钨钼板棒材经过精密加工制得的钨钼器件组成。

我们生产的钨钼离子注入部件已广泛应用于各种型号离子注入机的腔室、灯丝、叶片、支架、阴极等部位。此外,依托强大的机加工能力,我们还可提供叶片、端子、绝缘体等石墨和陶瓷等部件。

 

 

 

 

优势一览


■    晶粒组织细小,可得到光洁的产品表面及更好的力学性能。

■    超高的材料纯度,避免离子注入制程中对产品及wafer的干扰。

■    对不同机型建立常用耗材安全库存,可实现货架式现货销售。

■    通过了ISO9001质量管理体系认证,并针对离子注入部件开展了产品关键参数SPC管控。

■    针对半导体行业需求,建设了洁净间及纯水产线,确保产品的清洗包装状态达到半导体无尘要求。

■    拥有国内最大的难熔金属机加工生产线,拥有各类高精度线切割、数控机床、加工中心上百台套,可实现离子注入部件的高精度加工。

■    具有六十余年钨钼材料研发制造经验,是国内最早从事难熔金属开发与研究的单位之一。

■    拥有专业的技术团队及强大的科研攻关能力,可根据客户需求设计开发新材质和设计的离子注入部件。