应用领域

Application Field

MOCVD加热器

领域介绍


MOCVD(金属有机化合物气相沉积)设备是LED半导体外延领域的关键核心设备,其中的加热器又是MOCVD设备的核心部件之一。MOCVD是一种利用有机金属分解反应进行气相外延生长薄膜的化学气相沉积技术。为了生长出多组分、大面积、薄层和超薄层化合物半导体材料, MOCVD设备除了要考虑系统密封性、流量、组分变换迅速等,最重要的是反应腔的温度控制。MOCVD腔体温度控制精度需达到0.2℃或更高,高的温场均匀性也是产品良率的重要保证。我们的钨、钼、铼、陶瓷等高性能材料是组成加热丝、隔热屏、导电柱等核心加热器部件的关键材料。

 

优势一览


我们从2007年开始进行MOCVD加热器的研究,并已与国际国内多家设备制造商形成战略合作关系,共同开发MOCVD设备。目前安泰天龙MOCVD加热器组件已大批量应用于全球在运行外延设备。